曲面電子制備的實(shí)現(xiàn)需要在任意曲面上制造傳感/驅(qū)動(dòng)元件及微處理器等功能器件,這些大面積微納結(jié)構(gòu)與器件的曲面制造,涉及機(jī)械、材料、力學(xué)、電子等多學(xué)科交叉研究,對(duì)制造技術(shù)提出了極大挑戰(zhàn)。目前曲面電子的制備方法采用剝離與轉(zhuǎn)印等多套復(fù)雜工藝的組合,其具體實(shí)現(xiàn)是首先將基于平面基底制備的微結(jié)構(gòu)通過(guò)激光等方式進(jìn)行剝離,然后通過(guò)轉(zhuǎn)印圖章將微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到曲面上,但是在非平面結(jié)構(gòu)上制備大規(guī)模電子器件和引線電路-直都是巨大的挑戰(zhàn)。目前,光刻、電子束、離子束等刻蝕工藝,以及絲網(wǎng)印刷、軟印刷、納米壓印等印刷工藝被陸續(xù)用于制備TFT陣列、傳感器陣列、引線電極等器件,但均無(wú)法解決大面積曲面電子制造難題。噴印技術(shù)直接在平面/曲面、有機(jī)/無(wú)機(jī)等多種基底上實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的大面積、高精度制造,是制造曲面電子的理想方式。氣溶膠噴印和接觸直寫技術(shù)在圓柱和圓球表面進(jìn)行天線曲面共形制造,為曲面共形制造提供了新思路,現(xiàn)有噴印技術(shù)(如傳統(tǒng)靜電、熱氣泡、壓電噴印)只兼容5-20cp粘度的墨水,噴印最小線寬為20um。電噴印可以利用100-10000cp的高粘性溶液(如納米銀漿、光刻膠等)制備微納結(jié)構(gòu)(引線、電極、掩膜),突破了傳統(tǒng)噴印墨水兼容性、打印分辯率低等技術(shù)瓶頸!。電噴印精度取決于電場(chǎng)中帶電液滴射流的噴射頻率與飛行軌跡等。但電噴印技術(shù)要想成為曲面電子制造手段,必須要繼續(xù)研究曲面襯底及其所引起非均勻電場(chǎng)對(duì)射流運(yùn)動(dòng)的影響,以及曲面路徑規(guī)劃、噴印頻率與運(yùn)動(dòng)速度匹配關(guān)系等內(nèi)容。